制程 | 能力及精度 | |
光刻膠涂布 | 旋涂 | 膠厚精度≤3% （適用于平面） |
| 光刻膠涂布 | 噴涂 | 膠厚精度≤10% （適用于平面/凹凸面） |
光刻 | 精度 2um 套準(zhǔn)精度：0.15um | |
顯影 | 精度2um 顯影均勻性<5% | |
蝕刻 | 尺寸散差 ±1um | |
制程 | 能力及精度 | |
光刻膠涂布 | 旋涂 | 膠厚精度≤3% （適用于平面） |
| 光刻膠涂布 | 噴涂 | 膠厚精度≤10% （適用于平面/凹凸面） |
光刻 | 精度 2um 套準(zhǔn)精度：0.15um | |
顯影 | 精度2um 顯影均勻性<5% | |
蝕刻 | 尺寸散差 ±1um | |